2018天天干夜夜操,无码丰满熟妇juliaann与黑人

您好，歡迎您進入深圳電商商業股份有限公司網站！

設為首頁 | 加入收藏

主營產品：

SMT設備，物料運輸，切削工具，作業工具，化學產品，測量儀器，供應器材，環境設備。（SAKAGUCHI坂口電熱）（NIPPON MUKI日本無機）（SUIDEN瑞電）（IMAO今尾）（SGK昭和技研） (愛安得AND)(OSAWA大澤)

搜索

產品目錄

產品詳情

所在位置: 首頁> 產品目錄> 工業器材> DNK大日本科研>

查看大圖

產品名稱：MA-5501ML，G3～G5基板用，直立型近接曝光裝置，DNK大日本科研
產品型號：MA-5501ML
產品廠商：日本DNK大日本科研
產品價格：0
折扣價格：0
產品文檔：

你添加了1件商品查看購物車

簡單介紹：

MA-5501ML，G3～G5基板用，直立型近接曝光裝置，DNK大日本科研 MA-5501ML，G3～G5基板用，直立型近接曝光裝置，DNK大日本科研 MA-5501ML，G3～G5基板用，直立型近接曝光裝置，DNK大日本科研

詳情介紹：

MA-5501ML，G3～G5基板用，直立型近接曝光裝置，DNK大日本科研
MA-5501ML，G3～G5基板用，直立型近接曝光裝置，DNK大日本科研
MA-5501ML，G3～G5基板用，直立型近接曝光裝置，DNK大日本科研
MA-5501ML，G3～G5基板用，直立型近接曝光裝置，DNK大日本科研
MA-5501ML，G3～G5基板用，直立型近接曝光裝置，DNK大日本科研
MA-5501ML，G3～G5基板用，直立型近接曝光裝置，DNK大日本科研

裝載有邊緣傳感器和間隙傳感器的非接觸式近接曝光裝置。*適合觸摸屏及有機EL等的量產。

特長：

能夠進行節拍時間約20秒(標準規格機，對位容許值設定為0.5μm時。不含曝光時間。)的高速曝光處理。
利用直讀式間隙傳感器與獨自的控制系統,能夠高速度和高精度地設定掩膜與基板間的近接間隙。
可配置嚴格控制處理部位溫度環境的溫控機房。為了防止因熱而引起的基板伸縮,還可選用基板臺溫度調控系統。
可選擇配置基板臺溫度控制系統及掩膜冷卻系統，以防止掩膜及玻璃基板因溫度差而引起的伸縮。(選購項)
能夠裝載存放5張掩膜的掩膜存放庫

		MA-5501ML	MA-5701ML
基板尺寸		370 x 470mm	550 x 650mm
對位		非接觸預對位～自動對位
間隙		擁有傳感性能
光源		超高壓水銀燈：2kW or 3.5kW or 5kW	超高壓水銀燈：10kW
外觀尺寸及重量	本體尺寸	W2400 x D2480 x H2290mm (另有控制箱、局部空調、冷水機)	W3600 x D3870 x H2500mm (另有控制箱、局部空調、冷水機)
	本體重量	1500kg	1900kg
	光源重量	500kg	1100kg
	無塵機房重量	250kg	300kg
選購項		掩膜冷卻、基板臺溫度調節、溫控機房、特殊對位照明
用途		觸摸屏、彩色濾光片、有機EL、C－STN、電子紙等