免费一区在线观看,久久综合给合久久狠狠狠97色69 ,国产日韩欧美

您好，歡迎您進入深圳電商商業股份有限公司網站！

設為首頁 | 加入收藏

主營產品：

SMT設備，物料運輸，切削工具，作業工具，化學產品，測量儀器，供應器材，環境設備。（SAKAGUCHI坂口電熱）（NIPPON MUKI日本無機）（SUIDEN瑞電）（IMAO今尾）（SGK昭和技研） (愛安得AND)(OSAWA大澤)

搜索

產品目錄

產品詳情

所在位置: 首頁> 產品目錄> 工業器材> DNK大日本科研>

查看大圖

產品名稱：MUM系列，MEMS用曝光裝置，日本曝光裝置，DNK大日本科研DSLY0505
產品型號：MUM系列
產品廠商：日本DNK大日本科研
產品價格：0
折扣價格：0
產品文檔：

你添加了1件商品查看購物車

簡單介紹：

MUM系列，MEMS用曝光裝置，日本曝光裝置，DNK大日本科研DSLY0505 MUM系列，MEMS用曝光裝置，日本曝光裝置，DNK大日本科研DSLY0505 MUM系列，MEMS用曝光裝置，日本曝光裝置，DNK大日本科研DSLY0505

詳情介紹：

MUM系列，MEMS用曝光裝置，日本曝光裝置，DNK大日本科研DSLY0505
MUM系列，MEMS用曝光裝置，日本曝光裝置，DNK大日本科研DSLY0505
MUM系列，MEMS用曝光裝置，日本曝光裝置，DNK大日本科研DSLY0505
MUM系列，MEMS用曝光裝置，日本曝光裝置，DNK大日本科研DSLY0505
MUM系列，MEMS用曝光裝置，日本曝光裝置，DNK大日本科研DSLY0505
MUM系列，MEMS用曝光裝置，日本曝光裝置，DNK大日本科研DSLY0505

在曝光過程中，通過移動掩膜來控制光刻膠表面的曝光能量分布。能夠制作有任意曲面及傾斜的三維微細構造體。

特點：

采用獨自的鏡面?鏡頭光學系統,實現**均勻的照射。
配備有可設定非接觸?面內均一間隙的間隙傳感器和對應多層曝光的顯微鏡、X?Y?θ軸對位臺的對位系統。
采用Moving UV mask法(使用Piezo Positioning Stage,使掩膜在曝光中微細移動)能夠控制厚膜光刻膠的側壁傾斜角度,形成三維微細構造體。

		MUM系列
掩膜尺寸		Max 9" x 9" x t3.0 mm
基板尺寸		Max Φ8"(Wafer)
光源		超高壓水銀燈：500W or 1kW
外觀尺寸及重量	本體尺寸	W2120 x D1305 x H1850 mm
	本體重量	640kg