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光敏曝光機 曝光機參數 MA-6701ML 日本曝光機 DNK大日本科研
光敏曝光機 曝光機參數 MA-6701ML 日本曝光機 DNK大日本科研
光敏曝光機 曝光機參數 MA-6701ML 日本曝光機 DNK大日本科研
DSMRO012
這是一種垂直接近式曝光機，通過使掩模和基板垂直來減少偏轉。它還支持內嵌水平輸送式前后處理設備。
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垂直放置掩模架/基板臺。掩模/掩模支架/基板臺自重偏轉校正變得不必要，實現了簡單和穩定的裝置。
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新通過該光學系統的，變得小于一半二偏角通常影響圖案轉印精度（相），更高的準確度可以是圖案轉移。
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完全分離主機和光源單元。通過不將光源的熱量傳遞至主體的結構，主體的熱量分布得以改善。
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為了防止由于掩模和玻璃基板的溫度差異引起的膨脹和收縮，可以選擇基板臺溫度控制和掩模冷卻系統。（可選）
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*大的電路板尺寸是1,200毫米×1,400毫米。而且，可以用獨特的光學系統進行統一的一體式曝光。
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可以安裝能夠存儲5個掩模的掩模庫。
MA-6701ML
MA-6801ML
MA-6131ML
底物大小
550 x 650毫米
650 x 750毫米
1100 x 1300毫米
面膜大小
620 x 720 x t 8.0毫米
700 x 800 x t 8.0毫米
1200 x 1400 x t 4.8毫米
對準
非接觸預校準?可以自動校準
差距
具有感應功能
光源
超高壓汞燈：8千瓦
超高壓汞燈：8千瓦
超高壓汞燈：18千瓦
外部尺寸和重量
身體尺寸
W 3500×D 2720×H 2700毫米
W4150×D3200×H2900毫米
W 11300×D 7060×H 3350mm
體重
3500公斤
3800公斤
12700公斤
光源重量
800公斤
1150公斤
4200公斤
選項
面罩冷卻，基板平臺溫度控制，熱室，特殊對準照明
使用
觸摸屏，彩色濾光片，有機EL，C-STN，電子紙等
這是一種垂直接近式曝光機，通過使掩模和基板垂直來減少偏轉。它還支持內嵌水平輸送式前后處理設備。
| MA-6701ML | MA-6801ML | MA-6131ML | |||
| 底物大小 | 550 x 650毫米 | 650 x 750毫米 | 1100 x 1300毫米 | ||
| 面膜大小 | 620 x 720 x t 8.0毫米 | 700 x 800 x t 8.0毫米 | 1200 x 1400 x t 4.8毫米 | ||
| 對準 | 非接觸預校準?可以自動校準 | ||||
| 差距 | 具有感應功能 | ||||
| 光源 | 超高壓汞燈：8千瓦 | 超高壓汞燈：8千瓦 | 超高壓汞燈：18千瓦 | ||
| 外部尺寸和重量 | 身體尺寸 | W 3500×D 2720×H 2700毫米 | W4150×D3200×H2900毫米 | W 11300×D 7060×H 3350mm | |
| 體重 | 3500公斤 | 3800公斤 | 12700公斤 | ||
| 光源重量 | 800公斤 | 1150公斤 | 4200公斤 | ||
| 選項 | 面罩冷卻，基板平臺溫度控制，熱室，特殊對準照明 | ||||
| 使用 | 觸摸屏，彩色濾光片，有機EL，C-STN，電子紙等 | ||||
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