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MX-1201E 日本曝光機 ***曝光 紫外曝光機 DNK大日本科研
MX-1201E 日本曝光機 ***曝光 紫外曝光機 DNK大日本科研
MX-1201E 日本曝光機 ***曝光 紫外曝光機 DNK大日本科研
DSMRO012
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它是一種可以通過原始高速繪圖“點陣法”直接繪制圖案的設備。
無掩模曝光技術
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直接圖像曝光是可能的研究和開發，試制，小批量生產和其他應用程序。
-
可以支持**PCB，高密度封裝，平板顯示器等，MEMS等微加工領域可供選擇。
-
在光刻工藝中不需要光掩模，可以*小化開發成本和時間差。
-
另外，我們可以根據您的需求來響應設備的需求。
MX-1201
MX-1201
MX-1201E
MX-1204
MX-1702e的
*小線寬（* 1）
5微米
5微米
3微米
1微米
10微米
數據分辨率
0.5微米
0.5微米
0.25微米
0.122μm
1.0微米
*大板尺寸
200 x 200毫米
200 x 200毫米
200 x 200毫米
150×150毫米
550 x 650毫米
有效的接觸面積
200 x 200毫米
200 x 200毫米
200 x 200毫米
150×150毫米
550 x 650毫米
激光主波長
405±5nm
375±5nm
405±5nm
375±5nm
405±5nm
曝光掃描速度
43.9毫米/秒
22.5毫米/秒
10.9毫米/秒
92.2毫米/秒
光學引擎的數量
1
7
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它是一種可以通過原始高速繪圖“點陣法”直接繪制圖案的設備。
無掩模曝光技術
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直接圖像曝光是可能的研究和開發，試制，小批量生產和其他應用程序。
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可以支持**PCB，高密度封裝，平板顯示器等，MEMS等微加工領域可供選擇。
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在光刻工藝中不需要光掩模，可以*小化開發成本和時間差。
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另外，我們可以根據您的需求來響應設備的需求。
MX-1201
MX-1201
MX-1201E
MX-1204
MX-1702e的
*小線寬（* 1）
5微米
5微米
3微米
1微米
10微米
數據分辨率
0.5微米
0.5微米
0.25微米
0.122μm
1.0微米
*大板尺寸
200 x 200毫米
200 x 200毫米
200 x 200毫米
150×150毫米
550 x 650毫米
有效的接觸面積
200 x 200毫米
200 x 200毫米
200 x 200毫米
150×150毫米
550 x 650毫米
激光主波長
405±5nm
375±5nm
405±5nm
375±5nm
405±5nm
曝光掃描速度
43.9毫米/秒
22.5毫米/秒
10.9毫米/秒
92.2毫米/秒
光學引擎的數量
1
7
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它是一種可以通過原始高速繪圖“點陣法”直接繪制圖案的設備。
無掩模曝光技術
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直接圖像曝光是可能的研究和開發，試制，小批量生產和其他應用程序。
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可以支持**PCB，高密度封裝，平板顯示器等，MEMS等微加工領域可供選擇。
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在光刻工藝中不需要光掩模，可以*小化開發成本和時間差。
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另外，我們可以根據您的需求來響應設備的需求。
MX-1201
MX-1201
MX-1201E
MX-1204
MX-1702e的
*小線寬（* 1）
5微米
5微米
3微米
1微米
10微米
數據分辨率
0.5微米
0.5微米
0.25微米
0.122μm
1.0微米
*大板尺寸
200 x 200毫米
200 x 200毫米
200 x 200毫米
150×150毫米
550 x 650毫米
有效的接觸面積
200 x 200毫米
200 x 200毫米
200 x 200毫米
150×150毫米
550 x 650毫米
激光主波長
405±5nm
375±5nm
405±5nm
375±5nm
405±5nm
曝光掃描速度
43.9毫米/秒
22.5毫米/秒
10.9毫米/秒
92.2毫米/秒
光學引擎的數量
1
7
它是一種可以通過原始高速繪圖“點陣法”直接繪制圖案的設備。
無掩模曝光技術
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直接圖像曝光是可能的研究和開發，試制，小批量生產和其他應用程序。
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可以支持**PCB，高密度封裝，平板顯示器等，MEMS等微加工領域可供選擇。
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在光刻工藝中不需要光掩模，可以*小化開發成本和時間差。
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另外，我們可以根據您的需求來響應設備的需求。
MX-1201
MX-1201
MX-1201E
MX-1204
MX-1702e的
*小線寬（* 1）
5微米
5微米
3微米
1微米
10微米
數據分辨率
0.5微米
0.5微米
0.25微米
0.122μm
1.0微米
*大板尺寸
200 x 200毫米
200 x 200毫米
200 x 200毫米
150×150毫米
550 x 650毫米
有效的接觸面積
200 x 200毫米
200 x 200毫米
200 x 200毫米
150×150毫米
550 x 650毫米
激光主波長
405±5nm
375±5nm
405±5nm
375±5nm
405±5nm
曝光掃描速度
43.9毫米/秒
22.5毫米/秒
10.9毫米/秒
92.2毫米/秒
光學引擎的數量
1
7
它是一種可以通過原始高速繪圖“點陣法”直接繪制圖案的設備。
| MX-1201 | MX-1201 | MX-1201E | MX-1204 | MX-1702e的 | |
| *小線寬（* 1） | 5微米 | 5微米 | 3微米 | 1微米 | 10微米 |
| 數據分辨率 | 0.5微米 | 0.5微米 | 0.25微米 | 0.122μm | 1.0微米 |
| *大板尺寸 | 200 x 200毫米 | 200 x 200毫米 | 200 x 200毫米 | 150×150毫米 | 550 x 650毫米 |
| 有效的接觸面積 | 200 x 200毫米 | 200 x 200毫米 | 200 x 200毫米 | 150×150毫米 | 550 x 650毫米 |
| 激光主波長 | 405±5nm | 375±5nm | 405±5nm | 375±5nm | 405±5nm |
| 曝光掃描速度 | 43.9毫米/秒 | 22.5毫米/秒 | 10.9毫米/秒 | 92.2毫米/秒 | |
| 光學引擎的數量 | 1 | 7 | |||
電商集團（中國）有限公司成立于2009年，是香港電商集團在中國的全資分公司，位于深圳市南山前海金融區，注冊資本壹億元，主營業務涵蓋國際貿易、婦嬰用品、醫遼、汽車、酒店、百貨、投資理財、互聯網等領域。集團在香港已建立完善的渠道網絡，豐富的領域資源，密切的政府協作，三大方面保障了公司業務的順利發展。秉承“行業多元化，水準國際化，服務專業化”的“三化”服務理念，利用其國際化的專業知識體系、精細化的服務流程、高性能的服務水準，為客戶提供高性價比的產品和全方位立體化解決方案。集團的采購商品來自美國、德國、瑞士、法國、意大利、日本、韓國，并建立了分公司，從而取得優勢的產品貨源，以及*即時的產品訊息。集團服務客戶已超過萬家，并獲得了百家國際品牌授權代理。
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